顯影液/洗淨液
顯影液/洗淨液

TMAH

TMAH (Tetra methyl ammonium hydroxide, (CH3)4NOH)
氫氧化四甲基銨 (或稱四甲基氫氧化銨)
TMAH屬強鹼之有機化合物，被廣泛使用在半導體矽晶圓表面處理及微影(Photolithography)製程。
產品主要可運用為洗浄液、蝕刻液、正型光阻顯影液、各種溶媒、作為催化劑使用。

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多摩集團TMAH Developer特點

顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品，多摩集團所生產之TMAH系列顯影液、洗淨液，品質具超高純度之世界最高水準。

多摩集團研發之含添加劑TMAH Developer

  • 與多廠之光阻液均能良好相容，無光阻依賴性。
  • 為低發泡性的顯影液。
  • 與其他光阻配合時，光阻的耐熱性及感應度不會改變。
  • 可縮短顯影時間及減少顯影液用量，擴大顯影製程中的容許性。
  • 多摩集團使用獨家的DMC製造方法，原材料幾乎不含氯離子。

同時取得日本以及美國的製造專利(專利字號U.S patent4634509 )。

TMAH系列

  • KTM-25：TMAH25%
  • KLD-25: TMAH25%
  • KTD-1: TMAH2.38%
  • AD-10: TMAH2.38%+界面活性劑
  • 洗淨液 Cleaner

多聯TMAH 多元服務

台灣在地化生產TMAH，月產能 ≧ 1,200噸
可接受TMAH濃度25%以下之各種訂單

可回收重覆使用容器:

6 M3 Lorry Tank (內襯材質為PTFE)
20 M3大型容量ISO Container

單次使用容器:

5 Liter PE Bottle
20 Liter PE Bottle
200 Liter PE Drum

物質安全資料表