薄膜形成液/多酚類
CVD產品
TEOS產品是CVD(Chemical Vapor Deposition)製程中常用之介電質材料，利用其產生的薄膜具有低介電的特性，可作為隔離電氣、閘極緩衝層、金屬層間的介電層等半導體應用。
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TEOS產品是CVD(Chemical Vapor Deposition)製程中常用之介電質材料，利用其產生的薄膜具有低介電的特性，可作為隔離電氣、閘極緩衝層、金屬層間的介電層等半導體應用。