TEOS產品是CVD(Chemical Vapor Deposition)製程中常用之介電質材料,利用其產生的薄膜具有低介電的特性,可作為隔離電氣、閘極緩衝層、金屬層間的介電層等半導體應用。
多聯科技擁有一座日本原廠(多摩化學)技轉的精密純化精餾塔,可大量生產半導體用的超高純度TEOS產品;每種化學品均有專用的精餾管路進行純化,可確保品質精純與穩定。TEOS純度可9N以上。
多聯提供個別客戶專屬的容器,可避免可能的交叉污染。並且有別於其他製造供應商,可提供每批號的分析數值,包括有機不純物、微粒子、水分等,真正做到產品品質的管控,讓客戶使用得更安心。
*多聯無提供工業級TEOS產品。